מטרה לקרטעת טנטלוםהוא חומר המשמש להכנת סרטים דקים, המשמש בדרך כלל להכנת רכיבים אלקטרוניים, ציוד אלקטרוני ואמצעי הקלטה מגנטיים, בהכנת התקני מוליכים למחצה, סרטי מתכת, חומרים מגנטיים, ציפויים אופטיים ושדות נוספים. הוא עשוי בדרך כלל מחומר מתכת טנטלום בטוהר גבוה, וניתן לבצע טיפול כימי או ליטוש מכני על פני השטח שלו כדי לקבל שטוחות וגימור מספקים כדי להבטיח את אחידות ואיכות הציפוי. ליעד טנטלום יש מאפיינים של עמידות בפני קורוזיה, יציבות בטמפרטורה גבוהה ועמידות טובה בחמצון, שיכולים לעמוד בדרישות של תהליכי הכנה קפדניים ברמת דיוק גבוהה.
יש לו תכונות פיזיקליות מצוינות כגון נקודת התכה גבוהה, יציבות תרמית גבוהה, צפיפות גבוהה, מקדם התפשטות נמוך והתנגדות נמוכה. יש לו גם עמידות בפני קורוזיה גבוהה והוא יכול לעמוד בפני שחיקה של מדיה קורוזיבית חזקה כמו חומצה טונגסטית, מימן פלואוריד וחומצה הידרופלואורית.
מטרת טנטלום מוכנה בדרך כלל על ידי עיבוד תרמי, עיבוד קר ותהליכי מתכות אבקה. עיבוד תרמי כולל פרזול, אקסטרוזיה, גלגול וכו'. עבודה קרה כוללת כרסום, קידוח, חריטה ועוד. תהליכי מטלורגיית אבקה כוללים סינטר, כבישה איזוסטטית חמה, התזת פלזמה וכו'.
1. מאפיינים כימיים
קרטט טנטלום מטרה היא מטרה עשויה מטנטלום מתכת, ותכונותיה הכימיות מתבטאות בעיקר בהיבטים הבאים:
1) עמידות בפני קורוזיה: לחומרי טנטלום יש עמידות טובה בפני קורוזיה, יכולים להתנגד לשחיקה של חומצות ואלקליות חזקות רבות, ויכולים גם לעמוד בפני גזים קורוזיביים כגון חמצון, גופרה והכלרה.
2) נקודת התכה גבוהה: לטנטלום יש נקודת התכה גבוהה של 3017 מעלות, ולכן יש לו עמידות בטמפרטורה גבוהה.
3) יציבות: לחומרי טנטלום יש יציבות כימית גבוהה ויכולים לשמור על התכונות הכימיות הטבועות בהם מפני שינוי על ידי הסביבה.
4) מוליכות: טנטלום הוא חומר מוליך מצוין עם מוליכות חשמלית ותכונות חשמליות טובות, ונמצא בשימוש נרחב בתעשיות האלקטרוניקה והמוליכים למחצה.
לסיכום, למטרת טנטלום יש תכונות כימיות כמו עמידות בפני קורוזיה, נקודת התכה גבוהה, יציבות ומוליכות.
2. מפרט
|
גודל |
עובי (מ"מ) |
רוחב (מ"מ) |
אורך (מ"מ) |
|
לְסַכֵּל |
0.03-0.07 |
30-200 |
>50 |
|
דַף |
0.07-0.5 |
30- 700 |
30-2000 |
|
גלשן |
0.5-10 |
50-1000 |
50-3000 |
3. תכונות פיזיקליות
מטרת טנטלום היא חומר המשמש לאידוי פיזי, להלן כמה מהתכונות הפיזיקליות העיקריות שלו:
- צפיפות: הצפיפות שלו היא 16.65 גרם/סמ"ק (בטמפרטורת החדר).
- נקודת התכה: נקודת ההיתוך שלו היא 2996 מעלות צלזיוס.
- עמידות בפני קורוזיה: יש לו עמידות בפני קורוזיה מעולה ויכול לפעול ביציבות בגזים אינרטיים וברוב החומצות והאלקליות האורגניות.
- מוליכות: זהו מוליך אלקטרוני מצוין, והמוליכות שלו יכולה להגיע ל-15.3 MS/m.
- מגנטי: זהו חומר לא מגנטי.
- מקדם ההתפשטות התרמית: מקדם ההתפשטות התרמית שלו הוא 6.3 × 10^-6 K^-1.
יש לציין כי הביצועים הפיזיים של מטרת הטנטלום יושפעו מיצרנים שונים, ולכן בעת הבחירה והשימוש בו, יש לברר לגבי פרמטרי הביצוע הפיזיים הספציפיים שלו.
4. תהליך עיבוד
תהליך הייצור של יעד טנטלום הוא כדלקמן:
1) בחרו והכינו את חומר הבסיס: בחרו חומר מתכת טנטלום איכותי וחתכו או יצקו אותו לצורה הרצויה.
2) טיפול פני השטח: טיפול פני השטח של התזת טנטלום מטרות, לרבות ליטוש מכני, ליטוש אלקטרוליטי וכו', על מנת להבטיח שהמשטח חלק ונקי, ועומד בדרישות פני השטח של יעד ההכנה.
3) ציפוי: הנח את המטרה בתא ואקום והשתמש בטכניקות כגון שקיעת אדים פיזית (PVD) או שקיעת אדים כימית (CVD) לציפוי.
4) חיתוך וניקוי: לחתוך את המטרה המצופה לגודל הנדרש, ולבצע ניקוי ובדיקת איכות.
5) אריזה ומשלוח: אריזה ומשלוח של היעד המוכן.
האמור לעיל הוא תהליך ההכנה הכללי, ושיטות ותהליכי ההכנה הספציפיים עשויים להשתנות עקב הגודל, העובי ושדות היישום של מטרות שונות.
עקרון עבודה: הוא ממוקם בתא ואקום במהלך תהליך הכנת הסרט, ובאמצעות שקיעת אדים פיזית, קיצוץ מגנטרון, שקיעת אדים פיזית של אלומת אלקטרונים וכו', חומרי גלם מתכתיים כגון טנטלום הופכים לגבישיות אחידה, צפופה ומצוינת. סרט צילום.
5. שדות יישום
קרטט טנטלום המטרה משמשת בעיקר בייצור רכיבים אלקטרוניים כגון קבלים וטרנזיסטורים. בנוסף, מטרת טנטלום משמשת גם לייצור חומרים אופטואלקטרוניים, טיפול פני השטח, ציפויים נגד קורוזיה ותחומים אחרים. יציבות כימית גבוהה ועמידות בפני קורוזיה, כמו גם חוזק טוב ויציבות תרמית, הופכים את מטרת הטנטלום לאחד מהחומרים הנבחרים עבור יישומים קריטיים רבים, כגון תעופה וחלל, צבא, רפואי ואנרגיה.
6. חבילה ומשלוח
תגיות פופולריות: מטרת קפיצת טנטלום, סין יצרנים, ספקים של מטרת קפיצת טנטלום
